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2024年中國半導(dǎo)體設(shè)備產(chǎn)業(yè)鏈圖譜研究分析（附產(chǎn)業(yè)鏈全景圖）
來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院 發(fā)布日期：2024-06-06 09:07
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5.涂膠顯影設(shè)備

（1）市場規(guī)模

隨著下游終端需求的擴(kuò)大，涂膠顯影設(shè)備市場規(guī)模增長顯著。中商產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2024-2029年中國半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)市場供需格局及發(fā)展前景預(yù)測報告》數(shù)據(jù)顯示，2022年中國涂膠顯影設(shè)備市場規(guī)模為11.1億元，同比增長18.1%。中商產(chǎn)業(yè)研究院分析師預(yù)測，2024年我國涂膠顯影設(shè)備市場規(guī)模將增至15.3億元。

數(shù)據(jù)來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

（2）競爭格局

在我國涂膠顯影設(shè)備市場中，東京電子占據(jù)國內(nèi)市場91%市場份額，DNS占據(jù)5%的市場份額，國內(nèi)芯源微僅占據(jù)4%市場份額，國產(chǎn)替代空間廣闊。

數(shù)據(jù)來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

6.半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)化率

中國設(shè)備產(chǎn)業(yè)未來10年，第一步將迎接中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)對設(shè)備投資需求成倍地增長，我國半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)化已取得一定進(jìn)展，在去膠、CMP、刻蝕和清洗設(shè)備市場的國產(chǎn)化率已突破雙位數(shù)，成長邊界不斷拓寬。光刻機(jī)、量測檢測設(shè)備、離子注入機(jī)和涂膠顯影設(shè)備等領(lǐng)域的國產(chǎn)化率仍在 10%以下，國產(chǎn)化率較低。

資料來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

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