三、中游分析
1.分類
光刻機(jī)按照有無(wú)掩??煞譃橛醒谀9饪虣C(jī)和無(wú)掩模光刻機(jī)。這兩類光刻機(jī)分別有不同的種類:無(wú)掩模光刻機(jī)分為電子束直寫光刻機(jī)、激光直寫光刻機(jī)、離子束直寫光刻機(jī),有掩模光刻機(jī)分為接近/接觸式光刻機(jī)以及投影光刻機(jī)。
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2.工作原理
光刻機(jī)的工作原理是通過(guò)一系列的光源能量、形狀控制手段,將光束透射過(guò)畫著線路圖的掩模,經(jīng)物鏡補(bǔ)償各種光學(xué)誤差,將線路圖成比例縮小后映射到硅片上,然后使用化學(xué)方法顯影,得到刻在硅片上的電路圖。不同光刻機(jī)的成像比例不同,有5:1,也有4:1。
簡(jiǎn)而言之,光刻機(jī)本身的原理,其實(shí)和相機(jī)非常相似,光刻機(jī)就像是一臺(tái)巨大的單反相機(jī)。對(duì)比相機(jī)和光刻機(jī),被拍攝的物體就等同于微影制程中的光罩,聚光鏡就是單反鏡頭,而底片(感光元件)就是預(yù)涂光阻層的晶圓。
光刻機(jī)工作原理圖
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