半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)中,前道量檢測設(shè)備主要運用光學(xué)技術(shù)、電子束技術(shù)等測量晶圓的薄膜厚度、關(guān)鍵尺寸等,或檢測產(chǎn)品表面存在的雜質(zhì)顆粒、機械劃傷、晶圓圖案缺陷等,貫穿光刻、刻蝕、薄膜沉積、CMP等晶圓制造的全部工序。前道量檢測設(shè)備根據(jù)使用目的可分為測量設(shè)備和檢測設(shè)備。
前道量檢測設(shè)備作為半導(dǎo)體設(shè)備市場的重要組成,其市場規(guī)模在半導(dǎo)體設(shè)備中僅次于薄膜沉積設(shè)備、光刻機、刻蝕設(shè)備。數(shù)據(jù)顯示,前道量檢測設(shè)備約占半導(dǎo)體設(shè)備市場規(guī)模的13%。
數(shù)據(jù)來源:SEMI、中商產(chǎn)業(yè)研究院整理
全球市場規(guī)模分析
近年來,全球前道量檢測設(shè)備市場呈現(xiàn)穩(wěn)步增長。數(shù)據(jù)顯示,全球前道量檢測設(shè)備市場規(guī)模由2017年的56.1億美元增長至2020年的76.5億美元,復(fù)合年均增長率達10.9%,預(yù)計2023年將達92億美元。
數(shù)據(jù)來源:VLSIResearch、中商產(chǎn)業(yè)研究院整理
中國市場規(guī)模分析
得益于半導(dǎo)體行業(yè)的繁榮發(fā)展,中國大陸前道量檢測市場規(guī)模快速增長,由2017年的8.4億美元增長至2020年的21億美元,年復(fù)合增長率達到35.7%,遠超全球平均水平,已成為全球最大的前道量檢測市場,預(yù)計2023年將達33.7億美元。
數(shù)據(jù)來源:VLSIResearch、中商產(chǎn)業(yè)研究院整理
更多資料請參考中商產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《中國前道量檢測設(shè)備市場前景及投資機會研究報告》,同時中商產(chǎn)業(yè)研究院還提供產(chǎn)業(yè)大數(shù)據(jù)、產(chǎn)業(yè)情報、行業(yè)研究報告、行業(yè)白皮書、商業(yè)計劃書、可行性研究報告、園區(qū)產(chǎn)業(yè)規(guī)劃、產(chǎn)業(yè)鏈招商圖譜、產(chǎn)業(yè)招商指引、產(chǎn)業(yè)鏈招商考察&推介會等服務(wù)。